ABB OA-ICOS 氣體分析儀采用離軸積分腔輸出光譜(OAICOS)技術(shù),能夠高精度、高靈敏度地測量HF、HCL、NH3及H2O等氣體,適用于半導(dǎo)體晶圓廠的工藝流程檢測、氣相沉積室監(jiān)測及FOUP監(jiān)測。其多氣體配置、亞ppb級濃度測量能力及優(yōu)化的數(shù)據(jù)處理使其具備高性能和高安全性,支持Modbus TCP輸出和遠(yuǎn)程控制功能,操作簡便,維護(hù)需求低。
? 支持 HF、HCI、NH3 的單氣體或多氣體配置
? 提供高精度、準(zhǔn)確的 H2O 測量結(jié)果
? 提供 0-5V 和 4-20 mA 模擬輸出(標(biāo)配),可選Modbus TCP
? 優(yōu)化數(shù)據(jù)處理,在測量亞 ppb 級別濃度時(shí),實(shí)現(xiàn)優(yōu)異性能
? 提供觸控?cái)?shù)字顯示屏,顯示氣體濃度和分析儀的狀態(tài)
? 提供主要密碼保護(hù),確保分析儀和數(shù)據(jù)安全
? 優(yōu)化的零氣性能,確保可靠地確認(rèn)過程事件
? 提供可定制的校準(zhǔn)套件和性能認(rèn)證文件包
? 堅(jiān)固耐用;所需的維護(hù)工作少且花費(fèi)較低
? 可輕松更換長期受到污染的部件(過濾器)和正常老化部件(泵隔膜)
? 服務(wù)工程師可現(xiàn)場診斷并更換其他大多數(shù)部件
? 鏡面清潔可現(xiàn)場進(jìn)行,無需在工廠費(fèi)時(shí)維修
項(xiàng)目(氣體) | NH? | H?O |
---|---|---|
精度 (1σ) | <1ppb (1秒) <0.3 ppb (10秒) <0.1 ppb (100秒) | <50 ppm (1秒) <20 ppm (10秒) <10 ppm (100秒) |
檢測限 (LOD) | 0.3 ppb (100秒) | 50 ppm (100秒) |
準(zhǔn)確性 * | ±0.3 ppb 或讀數(shù)的5%,以較高者為準(zhǔn) | >7,000 ppm = 1% FSD |
不同分析儀的結(jié)果差異 (相對于平均值,10秒) | ±0.4 ppb 或讀數(shù)的5%,以較高者為準(zhǔn) | ≤1000 ppm = ±10% |
線性測量范圍 | 高達(dá) 10,000 ppb | 高達(dá) 30,000 ppm |
樣品流量 (ppm) | 1.4-2.4 | |
響應(yīng)時(shí)間 (T??, T??) | 10秒 |
項(xiàng)目(氣體) | HCl** | HF | H?O |
---|---|---|---|
精度 (1σ) | <0.3 ppb (1秒) <0.1 ppb (10秒) <0.035 ppb (100秒) | <0.1 ppb (1秒) <0.05 ppb (10秒) <0.025 ppb (100秒) | <25 ppm (1秒) <10 ppm (10秒) <5 ppm (100秒) |
檢測限 (LOD) | 0.1 ppb (100秒) | 0.075 ppm (100秒) | 25 ppm (100秒) |
準(zhǔn)確性 * | ±0.15 ppb 或讀數(shù)的5%,以較高者為準(zhǔn) | ±0.1 ppb 或讀數(shù)的5%,以較高者為準(zhǔn) | >7000 ppm = 1% FSD |
不同分析儀的結(jié)果差異 (相對于平均值,10秒) | ±0.2 ppb 或讀數(shù)的5%,以較高者為準(zhǔn) | ±0.2 ppb 或讀數(shù)的5%,以較高者為準(zhǔn) | ≤ 1000 ppm = ±10% |
線性測量范圍 | 高達(dá) 2,000 ppb | 高達(dá) 2,000 ppb | 高達(dá) 30,000 ppm |
樣品流量 (ppm) | 1.1-1.9 | ||
響應(yīng)時(shí)間 (T??, T??) | 25秒 | 25秒 |
* 適用于典型的半導(dǎo)體晶圓廠,在設(shè)定的19°C和23°C溫度范圍內(nèi),在至少1小時(shí)內(nèi),變化范圍在±1°C。
** HCl測量僅適用于GLA231-HFHC型號的分析儀。
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